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供应精品钨靶、钨圆靶、钨溅射靶材

发布时间: 2016-12-25 18:13:09    浏览次数:

  钨靶 钨圆靶 钨溅射靶材

【产品参数】

名称:钨靶、钨圆靶、钨溅射靶材

牌号:W1,W2

属性:

纯度:W≥99.95% 密度:10.2g/cm3 熔点:2610℃ 沸点:5560℃

技术条件:符合GB4187-84,ASTM F288-90

规格:

圆形靶:直径>360mm*厚度>1mm

板靶:长<300mm*宽<300mm*厚度>1mm

旋转靶:直径<360mm*厚度>2mm

用途: 用于电子信息、平面显示器、溅射镀膜、表面涂层、PVD涂料、X射线 管、导电玻璃、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀 膜系统等。

靶材:在溅射沉积技术中用作阴极的材料。该阴极材料在带正电荷的阳离 子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。

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