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专业定制耐高温 耐酸碱 钽靶 钽锭 厂价直销

发布时间: 2016-12-23 12:18:40    浏览次数:

钽靶材

牌号:Ta1.Ta2.TaW2.5.TaW10。.

标准:GB/3629-2006

纯度:≥99.95%

状态:退火态(M)或硬态(Y)

用途:主要应用于半导体镀膜和光学镀膜。

纯度:99.95%~99.99%。

规格:

方靶材,厚度x宽度x长度=5~25x≤800x≤2000(mm); 圆靶材,厚度x直径=3~50x≤Φ800(mm)。

成分要求:

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应用: 钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材,化学纯度高,晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好,主要应用于光导纤维,半导体晶片和集成电路的溅射沉积镀膜,钽靶材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等,是重要的薄膜技术用材料。

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